高精度真空鍍膜裝置，抽真空裝置包括真空泵和真空壓力傳感器，真空壓力傳感器設置于中央真空室內；新型高精度真空鍍膜裝置提高了鍍膜厚度控制精度，提高了產(chǎn)品加工工藝的重復性。真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，在真空室內材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。其被廣泛應用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片，如航海望遠鏡鏡片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到待鍍膜固體上，即襯底或基片表面，從而凝結形成固態(tài)薄膜的方法。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

離子鍍在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物沉積在基片上的方法。其中包括磁控濺射離子鍍、反應離子鍍、空心陰極放電離子鍍（空心陰極蒸鍍法）、多弧離子鍍（陰極電弧離子鍍）等。真空鍍的基本流程如下方框圖：真空鍍由于是氣象沉積，一般能?chē)娡康乃苣z材料都能實(shí)現真空鍍，如ABS，P，PMMA，PET，PS等。真空鍍表面顏色不受限制，通過(guò)鍍不同的金屬體現不同的顏色，還以做五顏六色的彩鍍，舉例如下銀色，可鍍鉻，表面鍍鈦多少錢(qián)，鋁，鎳等來(lái)實(shí)現金色，鍍鈦，可鍍金，鈦的氮化物與金合金，黑色與槍色，鍍鈦與碳的化合物局部電鍍方便，專(zhuān)業(yè)鍍鈦服務(wù)，真空鍍可以利用夾具來(lái)遮擋不需要電鍍的區域。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

對應于PVD技術(shù)的三個(gè)分類(lèi)，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來(lái)，真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是zui快的，表面鍍鈦公司，它已經(jīng)成為當今zui先進(jìn)的表面處理方式之一。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說(shuō)的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。物理氣相沉積（PVD）物理氣相沉積是通過(guò)蒸發(fā)，電離或濺射等過(guò)程，產(chǎn)生金屬粒子并與反應氣體反應形成化合物沉積在工件表面。物理氣象沉積方法有真空鍍，真空濺射和離子鍍三種。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制